技术编号：2768265
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术本发明涉及用于以短波长(即＜400nm)光进行光刻印刷的相移光掩模坯。更具体地说本发明涉及相移光掩模坯，它能使透射光衰减并且相对于在空气中光传播同样路径的光线改变其相位达180°±10°及其奇数倍。这样的光掩模坯一般在此中都被认为是在衰减(嵌入)相移或半调谐(half-tone)相移光掩模坯。常规光掩模坯通常是由具有不透明铬薄膜的衬底如熔融二氧化硅板所组成。光掩模都是采用在该薄膜空白区上构成所需图样的方法由这些毛坯而制成的。在使用中通过光学方法使光...
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