技术编号：2770482
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在布局设计基础上使用EB绘形数据用电子束在光掩模上形成EB绘形的掩模制造方法。光掩模用于集成电路制造的光刻技术中。通过使用由铬或类似物组成的金属光掩蔽部件在玻璃基片上形成EB绘形制备所述光掩模。使用电子束(EB)的光刻装置利用电子束通过光刻技术形成所述EB绘形。通过使用由集成电路的设计数据得到的布局设计数据作为图形数据，EB光刻装置画出EB绘形。图形数据由对应于集成电路上的栅电极部分、源/漏部分等的矩形图形的组合组成。此时，在布局设计中，预先准备...
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