技术编号：2771288
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型是一种亚微米光刻机的光学预对准装置，属于光刻机自动对准的预对准。微电子工业的专用设备亚微米光刻机，在光刻硅片时因套刻精度要求较高，一般都采用光栅衍射暗场同轴掩模硅片直接精密对准(以下简称精对准)，该精对准系统捕获对准标记的范围在±20μm，最大极限不超过±40μm，这就要求硅片装上承片台的误差要控制在这个范围之内，否则会捕获不到标记而使精对准失败。现有的光刻机一般采用预对准结构，如美国GCA公司的6300型、8000型，这类光刻机的传输带从硅片盒...
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