技术编号：2771936
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及中间色调型的相移掩模、使用该种相移掩模的图形的形成方法和电子器件的制造方法。背景技术 近年来，半导体集成电路中的高集成化和微细化是惊人的。与之相随，在半导体衬底(以下仅称为晶片)上所形成的电路图形的微细化也正在取得急剧的进展。尤其是，光刻技术被广泛地认为是一种图形形成中的基本技术。因而，迄今已对其进行了各种开发和改进。然而，图形的微细化永无止境，提高图形的分辨率的要求仍在进一步增强。这种光刻技术指的是将光掩模(原图)上的图形复制到涂敷在晶片上的光...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。