技术编号:27727922
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及气相炉设备技术领域,更具体的说是一种管式气相沉积炉。背景技术.申请号为cn.公开的一种lpcvd沉积炉,涉及沉积炉领域。该lpcvd沉积炉,包括底座,所述底座的顶部包括箱体、左支架和右支架,所述箱体的底部与底座的顶部固定连接,所述左支架位于箱体的左侧设置,所述左支架的底部与底座的顶部固定连接,左支架的右侧与箱体的左侧固定连接,右支架位于箱体的右侧设置,右支架的左侧与箱体的右侧固定连接,左支架的顶部包括左卡块,左卡块的底部后侧通过铰链与左支架的顶部后侧...
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