技术编号：2773849
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体集成电路的制造过程中所使用的。背景技术 随着半导体集成电路的高集成化以及半导体元件的小型化，期望加速对平板印刷技术的开发。现在通常使用以水银灯、KrF准分子激光(excimer laser)、ArF准分子激光等作为曝光光的光刻法来形成图案，随着对曝光光源短波长化的探讨，对于曝光装置积极进行缩小投影透镜的高NA(数值孔径)化。特别是随着高NA化的进行，虽然现在NA为0.7左右，但预测今后可能会达到0.9以上。下面参照附图9(a)～(d)，对利...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。