技术编号：2773854
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种辐射敏感性组合物，其包含一种树脂组合物和一种辐射敏感性物质，更具体地说，本发明涉及一种适用于用作生产半导体装置如大规模集成电路(LSI)和平板显示器如液晶显示器(LCD)等中的光致抗蚀剂材料的辐射敏感性组合物及其用途。背景技术在生产半导体集成电路如大规模集成电路、生产FPD、生产用于热位差等的半导体集成电路衬底等用途的广泛领域中，照相平印术一直被用来形成微型元件或进行精细加工。在照相平印术中，采用正型或负型辐射敏感性树脂组合物形成抗蚀剂图案，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。