技术编号：2773886
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种，该方法通过以抗蚀剂图案作为掩模的刻蚀工艺将透镜的形状转移到透明基底或下层上。本发明还涉及所制造的微透镜阵列。本申请要求享有2003年2月7日提交的日本专利申请2003-030908号的优先权，其全部内容在本文中作为参考。背景技术 具有规则排列的多个微透镜的微透镜阵列被用于光纤阵列、集成光路、固态成像器、电子复印机光学系统、液晶显示器等装置的光耦合器。根据这种微透镜阵列的传统制造方法，形成圆形的正性抗蚀剂图案，并经过加热和软熔处理将其变成凸透...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。