技术编号：2775255
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻投影装置，包括如在权利要求1的前序部分中所定义的，用于倾斜灵敏度降低的晶片对准的设备。本发明还涉及一种如权利要求6的前序部分中所陈述的用于倾斜灵敏度降低的晶片对准的方法。背景技术 本发明在光刻投影装置领域中发现一优选申请，该装置包括提供辐射投影光束的辐射系统，支承图案形成装置的支承结构，其中图案形成装置用来根据预期的图案使投影光束形成图案，保持基底的基底台；和用于把形成图案的光束投射到基底的靶区的投影系统。这里使用的术语“构图装置”应广义地解...
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