技术编号：2775508
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明通常涉及光刻。具体而言，本发明涉及无掩模光刻。背景技术 光刻是用于在基片表面产生特征的处理。这样的基片可包括用于制造平面显示器(例如，液晶显示器)，电路板，多种集成电路等的基片。对于这些应用，经常使用的基片为半导体晶片或玻璃基片。尽管此处的描述是就半导体晶片而言，但这是出于说明目的，本领域技术人员将会理解，本文的描述还应用在本领域技术人员已知的其他类型基片。在光刻期间，晶片放置在晶片台上，通过处在光刻设备内的曝光光学装置，将图像投射到晶片表面，将晶片...
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