技术编号：2775509
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明通常涉及微影术。更具体地说，本发明涉及无掩模微影术。背景技术 微影术是用来在衬底的表面上产生特征的过程。这类衬底能包括用在制造平板显示器(例如液晶显示器)、电路板、各种集成电路等等中的那些衬底。用于这类应用的频繁使用的衬底是半导体晶片或玻璃衬底。尽管为示例目的，根据半导体晶片来书写本说明书，本领域的技术人员将意识到本说明书也可以应用于本领域技术人员已知的其他类型的衬底。在微影术期间，通过位于微影术装置内的曝光器件(exposureoptics)，使得...
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