技术编号：2775878
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及具有非碳四价元素(Si、Ti、Ge、Zr、Sn)的新的聚合物，以及含有这些聚合物的光可成像组合物。优选的聚合物是有机的，例如一种或多种含碳原子的聚合重复单元。尤其优选的是含有SiO2或TiO2重复单元的聚合物，其可非常有利地作为在短波长例如亚-300nm和亚-200nm波长下成像抗蚀剂的树脂成分。2.背景技术光刻胶是用于将图像转移到基材上的光敏薄膜。在基材上形成光刻胶的涂层，然后将光刻胶层经由光掩模在活化辐射源下曝光。该光掩模具有对活化辐射不透明...
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