图形制造系统、曝光装置及曝光方法技术资料下载

技术编号:2776053

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本发明涉及一种抑制在制造印刷基板的电路图形等时由显影液或蚀刻液的劣化等产生的成品的偏差的图形制造系统。背景技术 例如,在制造印刷基板的情况下,以前已知一种方法先制作光掩模,利用该光掩模对基板上的抗蚀剂进行曝光固化后,再显影该抗蚀剂来形成抗蚀图形,利用该抗蚀图形对基板上的铜箔进行蚀刻从而形成电路图形。在上述现有的方法中,进行蚀刻时,基板上的铜箔的量依赖抗蚀图形线的密度而变化,存在成品电路图形线的线宽产生偏差的问题。对于此存在根据要形成的电路图形线的密度、预先...
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