技术编号：2776099
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光致抗蚀剂脱膜剂组合物，更具体而言，涉及一种在光刻蚀法中用于从基片上脱除光致抗蚀剂的光致抗蚀剂脱膜剂组合物，所述光刻蚀法用于制造半导体元件和液晶显示器(LCDs)。简言之，在光刻蚀法中，光致抗蚀剂层沉积在预定的基片上，例如半导体基片或玻璃基片。光致抗蚀剂涂敷的基片可以是裸基片，其在光刻蚀法之前没有经过任何处理。然而，暴露于光刻蚀法的基片通常具有亚结构，例如通过一系列在先的步骤在基片上形成的金属互连。光致抗蚀剂层可在整个基片上或基片的一部分上形...
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