技术编号：2776112
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻装置以及利用光刻装置的器件制造方法。背景技术 光刻装置是在基底的靶部上涂上一层需要的图案的机器。光刻装置能用于例如集成电路的制造中。在这种情况下构图装置例如掩模，可以用来产生对应于集成电路的各个涂层的电路图案。该图案能成像到基底(例如硅片)的靶部上(例如由一个或几个管芯(die)组成)，该基底具有辐射敏感材料层(抗蚀剂)。总的来讲，单个基底还包括接连曝光的邻近靶部的网络。已知的光刻装置包括所谓的步进器，其中通过将整个图案一次曝光在靶部上使每个...
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