技术编号：2776247
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种包括曝光系统和测量系统的光刻投影装置，该曝光系统包括-用于提供辐射投射光束的辐射系统；-用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图；-用于保持第一基底的基底台；-用于将带图案的光束投射到第一基底的目标部分上的投影系统，该投影系统包括用于控制投射到第一基底的目标部分上的投影控制装置；以及-用于移动曝光系统的可移动部分使带图案的光束可相对于第一基底移动的第一控制装置，测量系统包括-用于将测量光束投射到第二基底的目...
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