技术编号：2776306
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请的概括而言涉及微光刻中根据象场图产生辅助特征的方法、程序产品和装置。背景技术 光刻装置可用于例如集成电路(IC)制造。在此情形中，掩模可以包含与IC各层对应的电路图案，并且该图案可以成像在涂覆有辐射敏感材料(抗蚀剂)层的基底(硅晶片)的目标部分上(例如包括一个或多个电路小片)。通常，单个晶片包含由相邻目标部分构成的整个网络，该相邻目标部分由投影系统逐个相继辐射。在一种光刻投影装置中，通过将整个掩模图案一次性曝光在目标部分上而使各个目标部分受到照射；这...
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