技术编号：2776773
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对衬底进行曝光的。本申请基于2004年12月2日申请的日本特愿2004-349730号及2005年6月14日申请的日本特愿2005-173339号主张优先权，在这里引用其内容。背景技术 在作为半导体器件或液晶显示器件等微型器件的制造工序之一的光刻工序中，使用将形成于掩模上的图案向感光性的衬底上曝光的曝光装置。该曝光装置具有保持掩模的掩模载台和保持衬底的衬底载台，边依次移动掩模载台及衬底载台，边将掩模的图案经由投影光学系统向衬底投影曝光。在微型器件...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。