技术编号：2776795
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及适于在显微光刻术的投影曝光装置的物镜中使用的传输光学元件以及显微光刻术的投影曝光装置中的物镜。本发明特别涉及具有至少一个光学元件的物镜。背景技术 显微光刻术的投影曝光装置用来产生半导体设备和其它精密结构部件、如集成电路或LCD。这样的投影曝光装置不仅包括用于光掩膜或分度线照明的光源和照明系统，还包括投影物镜，它将分度线图案投影到光敏衬底(如已被涂上光刻胶的硅片)上。迄今为止，特别是如下三种方法已被接受以产生数量级小于100nm的更小结构首先，试图...
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