技术编号：2776806
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。正型光致抗蚀剂树脂膜具有优异的物理性能，如高的膜感光度(或光敏速度)、显影反差、灵敏度、分辨率和/或与衬底的粘附性。背景技术 光致抗蚀剂和光致抗蚀剂膜用于制造高度集成的半导体，如集成电路(IC)、印刷电路板(PCB)和电子显示装置，如阴极射线管(CRT)、彩色液晶显示器(LCD)和有机电致发光显示器(EL或ELD)。用于这些装置的制造方法使用光刻和光加工技术。光致抗蚀剂膜需要足以形成具有不大于7μm的极细的线和小空间区域的图案的分辨率。通过光致抗蚀剂树脂或...
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