技术编号：2776946
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于在半导体处理中使用的分配流体的装置和方法。更具体而言，本发明涉及使用个别流体分配器分配光刻胶和其他流体。背景技术 光刻印刷处理是用于在半导体晶片上形成选定的电路图案的重要技术。通常，光刻胶膜可以在此处理期间沉积到衬底晶片上并被图案曝光于印刷装备以转印选定的电路图案。然后用显影溶液显影光刻胶以获得与转印图案相对应的抗蚀剂图案。显影剂会趋向于移除光刻胶的相对更多的可溶解区域并遗留剩余的图案化的图形，该图形基本用作刻蚀多个半导体晶片层的掩膜。为了在...
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