用于制备抗蚀剂基底的方法技术资料下载

技术编号:2776953

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本发明涉及一种制备基底的方法,该基底具有成起伏结构形式的抗蚀剂层,该起伏结构代表一种衍射结构,并且该基底具有导电层,该导电层在抗蚀剂层由电子束曝光时散射一次电子和/或产生二次电子。而且,本发明涉及抗蚀剂底版和抗蚀剂基底。背景技术 其光学性质随视角而变化的光学可变元件不但经常用于防止比如信用卡、纸币等有价凭证被伪造或复制,而且用于对任何产品包装的产品保护。这些光学可变元件具有真的全息图、计算机全息图的衍射结构,或带有并排放置的光栅场的光栅图像的衍射结构。通常...
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