技术编号：2777056
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于形成精细图形的助剂，它应用于图形形成方法中，在制造电子元件例如半导体等或三维精细结构件例如微机械时的精细加工中，通过在光致抗蚀剂图形上涂覆助剂来增厚该光致抗蚀剂图形，该方法可以形成图形尺寸为曝光波长的图形分辨率极限或更小的抗蚀图形，还涉及用于助剂的原料聚合物及原料聚合物的制备方法。背景技术 迄今照相平版印刷术常应用于制造电子元件例如半导体等、三维精细结构件等的精细加工中。在照相平版印刷方法中，正性或负性辐射敏感树脂组合物用于形成抗蚀图形。在这...
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