技术编号：2777417
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般涉及集成电路制造的领域，更特别的是，涉及用于通过沉浸光刻(immersion lithography)监视和/或控制晶片成像的方法和设备。背景技术 晶片上的多种集成电路(IC)结构的形成经常依赖光刻过程，其有时也被称为光刻蚀法(photolithography)。例如，通过使光能经过具有把所需的图案成像到光阻(PR)层的布置的掩模(mask)(或中间掩模(reticle))，能够从PR层形成图案。结果，图案被传递到PR层。在PR被充分曝光并且在显...
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