技术编号：2777503
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明总体上涉及一种为浸没光刻(immersion lithography)提供流体的系统和方法，更具体地说，是一种控制流体流量和压力以便为浸没光刻提供稳定条件的系统和方法。背景技术 曝光装置是一种精密组件，在半导体处理期间，它通常被用于把图像从一分划板转移到半导体晶片上。一种典型的曝光装置包括一照明源；一分划板台组件，用于保持着一分划板；一光学组件；一晶片台组件，用于保持着半导体晶片；一测量系统；一控制系统。涂敷有抗蚀剂的晶片被放置在从一形成图案的掩膜发...
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