技术编号：2777511
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景在电子仪器中当前产品的趋向是需要越来越细间距的挠性电路。在挠性电路成像步骤期间由于附着于光掩模上的微粒引起的图案重复缺陷明显减少成品率。挠性电路的制造涉及形成几个与邻近它们的层紧密接触的介电的和导电的材料层。这些层的至少一个通过有选择地将材料引入或者从那个层中移出从而可以形成图案。所述图样可以通过光刻工艺形成。例如，光致抗蚀剂材料层可以施加在要形成图案的层的表面上。具有所述希望图样形式、透明的和不透明区的光掩模可用于有选择地使光致抗蚀剂暴露于紫外线。所...
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