技术编号：2777821
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于微光刻(Microlithography)投影曝光系统的照明系统，用于利用来自原始光源的光照明一个照度场。背景技术 用于半导体部件和其它精细结构部件的微光刻生产的投影曝光系统的效率基本上由投影物镜的成像性质决定。进而，利用这个系统能够实现的图像质量和晶片产量也基本上由安排在投影物镜的上游方向照明系统的性质决定。这一定要能够产生出来自原始光源(例如，激光源)的光，具有最大可能的效率，并且在这个过程中，能够在照明系统的照度场中产生最均匀的强度分布...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。