技术编号：2777893
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于补偿照明系统、特别是与光刻系统相关的照明系统的不对称光瞳照明的滤光装置。背景技术 通常对用于制造微电子或微机械部件的光刻系统的照明系统提出的要求很高。这涉及用作晶片步进机或晶片扫描器的两种系统。这种照明系统必须以均匀的方式在照明系统的场平面内照亮物体，该物体通常是掩膜。除了这种需要之外，对场平面内的照明的角分布也有要求，其本身与照明系统的出射光瞳的照明有关。对于光刻系统来说，照明系统的出射光瞳与下游的投影物镜的入射光瞳相重合。这就是为什么...
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