技术编号：2778003
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一般而言本发明系有关集成电路制造的领域，尤其系有关使用兼容浸渍媒质(conforming immersion medium)，如具有固态、半固态、凝胶态或橡胶态稠度的媒质的浸渍光刻(immersion lithography)方法，以及相对应的装置。背景技术 在晶片上形成各种集成电路(IC)经常仰赖光刻方法(Iithographicprocess)，有时称为光光刻(photo lithography)，或简称为光刻(Iithography)。如众所周知般，...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。