技术编号：2778725
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是一种光栅偏振掩模板，属于分步重复投影光学光刻系统和步进扫描投影光学光刻系统中掩模板结构的进一步优化设计。背景技术 随着现代微电子技术向高集成度超微细化方向发展，不断提高制作微细图形的投影光刻设备所能达到的光刻分辨力水平，成为现代光刻技术急需解决的核心问题。由于“下一代”光刻技术(如EUV光刻技术、电子束投影光刻技术、X射线光刻技术等等)仍处于研究阶段，并且其技术、设备和工艺十分昂贵，加之光学光刻技术的成熟性以及设备的进步和广泛应用，所以，研究、开发...
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