技术编号：2779336
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于微电子、微机械制造，具体涉及一种在常温下大面积微压印光刻专用超平整度软模具的制作方法，该方法制备的软模具可用于各种微纳米器件中的微纳米级图型(pattern)结构或构件的大规模压印复制，这些器件包括集成电路、光通讯中的光波导、有机半导体太阳能电池异质结处深亚微米界面、微流控器件、微传感器、微致动器件等。并适合于多层套印。背景技术 在上述各类微纳米器件的制作工艺链中，光刻工艺是其中的核心技术。传统光学投影光刻因其固有的衍射现象，应用于深亚微米或以下...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。