技术编号：2779386
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及浸没式光刻系统中的液体传送及气密封装置，特别是涉及一种在投影透镜末端元件和硅片之间的缝隙中传送液体，并保证液体无泄漏的液体传送及气密封装置。背景技术 现代光刻设备以光学光刻为基础，它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影曝光到涂过光刻胶的硅片上。它包括一个紫外光源、一个光学系统、一块由芯片图形组成的投影掩膜版、一个对准系统和一个覆盖光敏光刻胶的硅片。浸没式光刻系统在投影透镜和硅片之间的缝隙中充满某种液体，通过提高该缝隙中介质的折射率来提高投影透镜...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。