技术编号：2779935
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种对曝光对象物照射曝光用光束绘制规定的绘案的，该曝光对象物是半导体晶片、液晶显示装置(LCD)用或光掩模用的基板、光盘用基板等在表面部形成有抗蚀膜(感光性树脂膜)的曝光对象物。背景技术 专利文献1特表2003-500847公报以往，提出了用于对半导体晶片、液晶显示装置(LCD)用或光掩模用的基板、光盘用基板等在表面部形成有抗蚀膜(感光性树脂膜)的曝光对象物上，绘制规定的绘案的激光绘图装置。并且，在专利文献1中揭示了在大型光掩模等的基板上，使用激...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。