技术编号：2780484
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的交叉引用本申请要求于2004年5月27日提交的日本专利申请2004-157419号的优先权，其全部内容由于提及而在此引入。背景技术本发明涉及一种适用于微细加工技术的抗蚀材料或者化学放大型抗蚀材料、以及利用这些抗蚀材料的图案形成方法。近年来，伴随着LSI的高集成化和高速度化，对布线图案的规格(rule)微细化的要求进一步提高。布线图案规格的微细化之所以急速地发展，是因为投影透镜的高NA化、抗蚀材料的性能提高、曝光光的短波长化等原因。从抗蚀材料的高析...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。