技术编号：2781723
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及扫描曝光设备的扫描曝光方法以及使用该扫描曝光设备的装置制造方法，尤其涉及适于曝光大掩膜的曝光设备。背景技术 近期的显示器，如个人计算机(“PC”)的显示器和电视机的显示器，经常使用液晶显示(“LCD”)基片。LCD基片使用光刻法在玻璃板片上形成预定形状的带有图形的透明薄膜电极，并且光刻法使用投影曝光设备，用于将形成于掩膜上的原始图形通过投影光学系统，曝光在玻璃板片的光刻胶层上。投影光学设备包括那类所谓的“分步重复”及镜面投影方式。随着近期对大LC...
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