技术编号：2783858
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种二维扫描精密激光曝光系统，特别是一种具有精密激光步进台和摆动扫描反射镜系统的二维扫描精密激光曝光系统。背景技术在刻制码盘时，传统的工艺是用汞灯或闪光灯照明掩模，利用穿孔带的移动来使狭缝透光或不透光，以达到胶层感光或不感光的目的。使用不同的穿孔带及掩模，就能刻制出不同的码盘来。由于各种码盘的码道是不相同的，因而就需作不同的穿孔带，制作一种穿孔带需要很长的时间，甚至几天才能作成。用这种工艺刻制码盘不仅生产效率低，而且作为码盘刻制工艺中的中间环节一...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。