技术编号：2783900
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于一种光刻图案化方法，特别是。背景技术 在电子工业加工中，光刻图案化技术是一种成熟的微图案加工方法。随着有机电子技术的发展，光刻图案化技术也应用到有机电子领域。在电子器件的光刻图案化加工过程中，为了保证最后得到图形的质量，需要得到边缘整齐直立且与光刻掩模板图形尺寸偏差小的光刻胶微结构，这样才能保证采用光刻图形传递得到的剥离或者刻蚀图形的精度。在有机发光矩阵显示中，甚至要求光刻得到的光刻胶图形侧壁向内凹陷，以用作有机发光层和电极层的分隔器。已有技术一...
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