技术编号：2786301
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于形成具有低电阻率的金属图案的方法。更具体地，本发明涉及用于通过以下方式形成金属图案的方法，即顺序地在衬底上形成由光催化化合物(即其反应性可被光改变的化合物)组成的光催化层和水溶性聚合物层，将该两层选择性曝光以形成用于通过光反应进行晶体生长的潜像中心(latent image centers)，将该潜图案(latent pattern)镀以所需的金属以在潜图案上生长金属晶体。背景技术 随着对大显示面和高分辨率的平板显示器(flat panel ...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。