技术编号：2786778
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种曝光装置，用于将掩膜版上需要曝光的图形按照一定的比例投影到硅片上，得到大面积具有一定陡度的线宽和精度的图形。背景技术 在超大规模集成电路光学光刻中，决定微细图形最细线宽的主要因素是光刻设备的光刻工作分辨力，而掩膜版和硅片的同步扫描运动是影响光刻分辨力的关键因素之一。随着大规模集成电路器件集成度的提高，光刻机工作分辨率和产率要求愈来愈高，即要求光刻机承版台和承片台的同步运动精度和步近扫描速度也得愈来愈高。要保证光刻分辨率和产率，就必须提高承版台...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。