技术编号：2787460
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用光刻掩膜制造物体的小尺寸器件，例如集成电路的方法。特别是，本发明涉及用于集成电路和类似物的复杂布置的相移掩膜的应用。背景技术 如专利号为No.5,858,580的美国专利所述，相移掩膜已经应用到集成电路中来制造小尺寸的器件。通常这些器件局限于具有小的、关键尺寸的选定的设计元件。虽然在集成电路中小尺寸器件的制造已经使速度和性能提高，但在这种装置的制造中还是需要更广泛地应用相移掩膜。然而，相移掩膜向更为复杂的设计的扩展导致掩膜设计问题的复杂度的大大...
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