技术编号：2789474
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及浸没式光刻技术，特别地，提供一种用于在浸没式光刻系统中原地清 洁透镜的方法。背景技术光刻是一种用于在衬底的表面上产生特征的工艺。这样的衬底可以包括那些用于 制造平板显示器(如，液晶显示器)、半导体晶片、电路板、各种集成电路、打印头、宏观/超 微流体(macro/nano-fluidic)基材等等的衬底。在光刻过程中，衬底被布置在一个衬底平 台上，通过光刻装置内的曝光光学元件被投影到衬底表面上的图像所曝光。该投影的图像使得沉积在衬底表面上的层(如光...
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