技术编号：2789564
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微电子和光学，尤其涉及一种。背景技术常见的衍射光学元件有波带片、光子筛、光栅等。在能量很高的射线领域，只有吸收体的厚度达到一定的值才可以吸收相应射线，所以制备大高宽比的衍射光学元件具有重要意义。而在通常情况下，高宽比大于4的衍射光学元件可以称作大高宽比衍射光学元件。传统大高宽比衍射光学元件制作过程主要包括以下步骤步骤一，在涂胶的衬底上曝光；步骤二，对旋涂的光刻胶进行显影；步骤三，显影完成之后，从显影液中拿出衬底在吹干的过程中，高宽比很大的图形光刻...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。