技术编号：2790969
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻工艺中使用的光掩模及该光掩模的制造方法。 背景技术当前，作为液晶显示装置中采用的方式，具有VA(Vertical Alignment 垂直配向)方式、IPS(In Plane Switching 面内切换)方式。通过应用这些方式，可以提供液晶响应快、视场角足够大的优异的动态图像。此外，通过在应用了这些方式的液晶显示装置的像素电极部中，使用基于透明导电膜形成的线与间隙图案(line and space pattern)，由此，能够实现响应速度、...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。