技术编号：2791625
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明主要涉及电子器件的制造。更具体地，本发明涉及使用负型调色 (negativetone)显影工艺形成精细图案的光刻工艺，该负型调色显影工艺使用特殊的有机材料作为显影剂。背景技术在半导体制造工业中，使用光致抗蚀剂材料将图案转移到布置在半导体基板上的一个和多个在下方的层上，例如金属，半导体和介电层，以及转移到基板自身上。为增加半导体器件的集成度并且考虑到形成具有纳米范围尺寸的结构，一直在发展具有高分辨能力的光致抗蚀剂和光刻工艺器具。一种在半导体器件中达到纳...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。