技术编号：2792002
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻装置和制造器件的方法。 背景技术光刻装置是将所需的图案施加到基底上(通常是施加到基底的靶部上)的设备。 光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，构图部件，或者可称为掩模 (mask)或中间掩模(reticle)，可用于产生形成在IC的单层上的电路图案。该图案可以被转移到基底(例如硅晶片)的靶部(例如包括一部分、一个或者多个管芯(die))上。这种图案的转移通常是通过成像到基底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行的。一般而...
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