技术编号：2792052
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于制造印制电路基板和液晶基板等基板的曝光装置。 背景技术光刻法被广泛应用于各种领域，利用曝光装置，在涂敷了光致抗蚀剂等感光材料的目标工件的表面，对既定掩模图形进行曝光，然后通过刻蚀工序在基板上形成掩模图形， 印制电路基板和液晶基板等也使用曝光装置来制造(例如参考专利文献1)。在这种曝光装置中，曝光光使用紫外线，并利用投影透镜，使透过形成有既定图形的掩模的紫外线成像在目标工件上，从而将既定的掩模图形形成在目标工件上。在此处，在印制电路基板等中，伴...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。