技术编号：2792079
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及能够对与产生在工件基板上的变形相对应的掩模图形像进行投影的曝光装置。背景技术以往，在曝光装置中周知的是测定工件基板的温度，对应工件基板的温度，并使配置在投影光路中的两张平行平面板中的一者沿厚度方向以一对纵向边为支点进行弯曲， 从而在横向(X方向)弯曲变形；使另一平行平面板以一对横边为支点沿厚度方向弯曲而在纵向方向(Y方向)弯曲变形，从而改变横向(X方向)、纵向(Y方向)的倍率，由此，将对应于工件基板的伸缩的掩模图形像投影到工件基板上(例如参考专利...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。