技术编号：2792470
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光学系统，特别是涉及一种微光刻曝光系统的照明系统或投影透镜。背景技术微光刻法被用在微结构部件的制作中，所述微结构部件如集成电路、LCD和其他微结构器件。微光刻过程在所谓的微光刻曝光系统中进行，所述微光刻曝光系统包括照明系统和投影透镜。将所述照明系统所照射的掩模(或掩模版(reticle))的像通过所述投影透镜投射到覆盖抗蚀剂的衬底上，所述衬底通常是带有一个或多个光敏层并提供在所述投影透镜的像平面中的硅晶片，以便将电路图案转印到晶片上的光敏层上...
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