技术编号：2792656
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及将布置在物面中的图形成像在像面上的反射折射投影物镜。 背景技术这些类型的投影物镜被用于投影曝光系统上，特别是用于制作半导体器件和其他类型微器件的晶片扫描器或者晶片步进机，用于将光掩模或者刻度片(reticle)(以后称作是“掩模”或者“刻度片”)上的图形以超高分辨率按照减小比例投影到具有光敏涂层的物体上。为了制作更加精细的结构，人们试图增加将被使用的投影物镜的图像端数值孔径 (NA)并且使用较短的波长，优选的是具有波长大约小于^Onm的紫外光。然...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。