技术编号：2792941
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种纳米结构图案制程装置，尤指一种激光直写式纳米周期性结构图案制造设备。背景技术目前有关纳米结构图案的既有微影加工技术包含有黄光微影、电子束微影、原子力显微术、X-ray微影、近场光束微影、激光干涉微影、传统激光直写曝光微影等技术，然而，前述既有技术的加工速度慢且大多需要庞大且昂贵的设备或装置，因此，不易普及应用 且工作范围小无法量产加工或者受光罩限制......等等，且既有形成纳米结构图案的加工技术无法产生非重复性的图形，再则，无论是何种制程方...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。